水滴角測量儀基于光學(xué)影像分析法的原理測試液體在固體表面的接觸角，液體的表面張力，以及固體表面能及其組分的估算。廣泛應(yīng)用于噴涂、鍍膜、玻璃、鋁箔、電子部件和清洗等行業(yè)的表面處理效果分析和潔凈度檢測。
水滴角測量儀的設(shè)備原理：
主要由光源、注射單元、樣品臺、采集系統(tǒng)、分析軟件五大部分組成，設(shè)備采用光學(xué)成像的原理。
光源采用密集LED冷光設(shè)計，發(fā)光均勻，圖像清洗，壽命長；
注射單元采用注射泵進(jìn)液，由軟件定量定速控制，滴液穩(wěn)定，精度高；
樣品臺采用三維手動精調(diào)平臺，操作靈活，準(zhǔn)確，樣品臺可根據(jù)實際樣品尺寸定制；
采集系統(tǒng)采用黑白進(jìn)口CCD相機(jī)，拍攝穩(wěn)定，圖像清晰，真實可靠，鏡頭采用進(jìn)口配置，放大可調(diào)，成像無畸形失真；
分析軟件功能強(qiáng)大，具備一鍵式全自動擬合能力，具備擬合方法，滿足各種液滴形態(tài)的擬合。
水滴角測量儀的應(yīng)用領(lǐng)域：
LCD面板行業(yè)：玻璃面板潔凈度與鍍膜質(zhì)量測量；TFT打印電路、彩色濾光片、ITO導(dǎo)體膠卷等前涂層質(zhì)量測量。
印刷、塑膠行業(yè)：表面清潔與附著質(zhì)量測量；油墨附著度測量；膠水膠體性質(zhì)相容性測量；染料的緊扣度。
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)：晶圓的潔凈度測量；HMDS的處理控制；CMP的研究測量、光阻與顯影劑的研究。
化學(xué)材料研究：防水與親水性能材料研究探討；表面活性與清潔劑的張力、濕性；黏性增強(qiáng)與附著表面能測量。
IC封裝：基質(zhì)表面潔凈度；原子合成氧化識別；BGA焊接表面；環(huán)氧化物的附著度測量。
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